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T/CEMIA 030-2022 半導體用正膠顯影液 - 四甲基氫氧化銨含量、碳酸根離子的檢驗
來源: | 來源:KEM China | 發布時間 :2024-06-21 | 306 次瀏覽: | 分享到:
京都電子KEM 高精密度自動電位滴定儀 AT-710S 運用于半導體用正膠顯影液 甲基氫氧化銨含量、碳酸根離子的檢驗

T/CEMIA 030-2022 半導體用正膠顯影液

●范圍
本標準規定了半導體用正膠顯影液的術語和定義、縮略語、分類、要求、檢驗方法、檢驗規則以及標志、包裝、運輸、貯存和安全。
本標準適用于半導體用正膠顯影液,其主要組分為通過季銨鹽化合物電解制得的四甲基氫氧化銨。

●術語和定義
本文件沒有需要界定的術語和定義。

●縮略語
下列縮略語適用于本文件。
PFA:四氟乙烯—全氟烷氧基乙烯基醚共聚物,又稱過氟烷基化物,可溶性聚四氟乙烯。

分類
按照四甲基氫氧化銨的含量進行分類,可分為c-a(四甲基氫氧化銨含量≥20.00%的半導體用正膠顯影液),c-b(四甲基氫氧化銨含量≤5%的半導體用正膠顯影液)。

●要求
外觀
無色透明液體。
主要化學成分
半導體用正膠顯影液的主要化學成分應符合表1的規定。
表1.jpg

●色度
半導體用正膠顯影液的色度應不大于5Hazen單位(Pt-Co色號)。
顆粒數
半導體用正膠顯影液的顆粒數應符合表2的規定。
表2.jpg

●甲醇
半導體用正膠顯影液的甲醇含量應符合表3的規定。
表3.jpg

●陰離子雜質含量
半導體用正膠顯影液的陰離子雜質含量應符合表4的規定。
表4.jpg

●金屬雜質含量
半導體用正膠顯影液的金屬雜質含量應符合表5的規定。
表5.jpg

表5續.jpg

●表面張力
c-b的表面張力指標管控可由供應商與客戶協商決定。

●檢驗方法
四甲基氫氧化銨含量
按 SJ/T 11636 的規定進行。

相關鏈接↓:

SJ/T 11636-2016 電子工業用顯影液中四甲基氫氧化銨的測定 自動電位滴定法

碳酸根離子
按 SJ/T 11635 的規定進行。

相關鏈接↓:

SJ/T 11635-2016 電子工業用顯影液中碳酸根離子的測定 自動電位滴定法


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京都電子KEM 電位滴定法自動電位滴定儀 AT-710S


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